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氮化鈦涂層可制備的復合涂層?

發(fā)表于:2023-11-15 來源:

氮化鈦涂層可制備的復合涂層?
氮化鈦涂層可制備Al/TiN的復合涂層
        氮化鈦涂層中鋁元素的參加有助于前進抗氧化才干和應用溫度規(guī)劃。關(guān)鍵在于TiN/Al高溫時氧氣的渙散構(gòu)成涂層Al2O3膜。多弧離子電鍍采用磁過濾法,在-1kV偏壓下-400V先鍍底層鋁,然后在-200V下鍍氮化鈦,將制備AL/TiN涂層與單層TiN涂層在空氣活動箱式爐中進行抗氧化功用對比實驗,作用為550C時,保溫20h,Al/TiN色彩略有改動,并且TiN現(xiàn)在,薄膜的色彩發(fā)生了很大的改動,導致氧化分化。氧化產(chǎn)品是TiO2。

參加氮化鈦涂層中的鈦過渡層會下降涂層樣品的外表硬度和承載才干。但是,鈦過渡層的引入并沒有導致氮化鈦涂層硬度值的較大改動,涂層的硬度主要為N和NTi二比與氮化鈦涂層的孔隙率有關(guān)。除前進粘附強度外,鈦過渡層的引入還可前進氮化鈦涂層的耐腐蝕性。

<a href=http://m.szycj.net.cn/news_article?news_id=111>氮化鈦涂層</a>

        當然,為了更好的前進涂層功用,也可以進行Ti/TiN/Ti/TiN等候多層復合材料。此外,鈦中間層添加后,涂層厚度沒有疊加;相反,在相同的條件下,堆集Ti/TiN涂層的厚度低于單層氮化鈦的厚度。這是由于從基體上堆集的涂層的厚度不同于中間層,被基體吸收的涂層材料也不同。TiN/Cr涂層
          電弧離子電鍍的制備方法可以控制獨立鈦靶和鉻靶的電弧電流,并在高速鋼基體上制備不同的成分比TiN/Cr涂層。
       氮化鈦涂層TiN/Cr涂層中的鉻原子部分替代了氮化鈦晶格中的鈦原子,部分與N反應生成氮化鉻。一種氮化鉻和兩種鉻可以單獨存在。由于鉻原子的參加,它得到了改進TiN/Cr涂層的密度前進了涂層的耐腐蝕性。

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